14納米製程

14納米製程是半導體製造製程的一個水準。最早的14納米器件是由英特爾於2014年製造。在14納米中，使用了多重圖形曝光模式。

2014年9月，英特爾推出第一代14nm處理器，採用Broadwell微架構。^[1]

參考文獻

^ Shvets, Anthony. Intel launches first Broadwell processors. CPU World. 7 September 2014 [18 March 2015]. （原始內容存檔於2015-03-16）.

先前 22納米製程	半導體器件製造製程	其後 10納米製程

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半導體器件製造

金屬氧化物半導體場效電晶體
010 µm – 1971 006 µm – 1974 003 µm – 1977 1.5 µm – 1981 001 µm – 1984 800 nm – 1987 600 nm – 1990 350 nm – 1993 250 nm – 1996 180 nm – 1999 130 nm – 2001 090 nm – 2003 065 nm – 2005 045 nm – 2007 032 nm – 2009 022 nm – 2012 014 nm – 2014 010 nm – 2016 007 nm – 2018 005 nm – 2020 003 nm – 2022
未來 002 nm ~ 2024
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