草醯氟
| 草醯氟 | |||
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| IUPAC名 Oxalyl difluoride | |||
| 別名 | 乙二醯氟 | ||
| 識別 | |||
| CAS號 | 359-40-0 
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| PubChem | 9668 | ||
| ChemSpider | 9287 | ||
| SMILES |
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| InChI |
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| EINECS | 206-630-4 | ||
| 性質 | |||
| 化學式 | C2F2O2 | ||
| 莫耳質量 | 94.017 g·mol⁻¹ | ||
| 熔點 | -3 °C（270 K） | ||
| 沸點 | 26.6 °C（300 K） | ||
| 若非註明，所有數據均出自標準狀態（25 ℃，100 kPa）下。 | |||
草醯氟是草酸的氟代衍生物，為平面分子[1]。它在刻蝕有著潛在應用，以替代有全球暖化潛勢的化合物使用。[2][3]
參見
[編輯]參考文獻
[編輯]- ^ 王冬梅, 耿志遠. 草醯氟分子(FCO)2的量子化學研究[J]. 寶雞文理學院學報(自科版), 2007, 27(1):49-53.
- ^ Method of etching and cleaning using fluorinated carbonyl compounds （頁面存檔備份，存於網際網路檔案館）, US Patent 6635185.
- ^ Simon Karecki; Ritwik Chatterjee; Laura Pruette; Rafael Reif; Terry Sparks; Laurie Beu; Victor Vartanian & Konstantin Novoselovc. Evaluation of Oxalyl Fluoride for a Dielectric Etch Application in an Inductively Coupled Plasma Etch Tool. J. Electrochem. Soc. 2001, 148 (3): G141–G149. doi:10.1149/1.1348263.